中国光刻机，横空出世！网友却吵翻了！为啥？[color=rgba(0, 0, 0, 0.3)]原创 [color=var(--weui-FG-2)]
冯站长之家 [color=var(--weui-LINK)][url=]冯站长之家[/url]
2024年09月23日 04:50 湖北
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2024年9月23日今日聚焦,冯站长之家,5分钟[color=var(--weui-FG-2)]#新闻连播（冯站长之家）2024年9月23日3个内容
文|丰 詹
在科技发展的浩瀚星空中，中国再次以惊人的毅力和智慧，点亮了一颗璀璨的新星。
9月份，国家工信部悄然公布“国产氟化氩光刻机”的名字。
中国国产光刻机，进入《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》！
中国光刻机，真的已经来了！
并且，已经可以推广应用了！
光刻机的横空出世，不仅是对中国科技工作者多年辛勤努力的肯定，更是对全球芯片产业格局的一次深刻撼动！
这一消息，如同一颗来自东方的“深水炸弹”！
瞬间在全球科技领域，引发了轩然大波！
回望过去，美国在芯片领域对中国实施的严厉制裁，试图将中国科技困于“黑暗森林”之中。
然而，正如历史无数次证明的那样，封锁与打压从未能阻挡中华民族追求科技进步的决心。
相反，这些挑战成为中国“芯”崛起的催化剂！
激发了中国人不屈不挠、勇于创新的民族精神！
在这场没有硝烟的战争中，中国的科技工作者们以坚韧不拔的毅力，终于在光刻机这一关键领域取得了突破性进展！
但是，中国官宣的国产光刻机，可以实现多少纳米的芯片制备？
面对工信部公布的同一份技术指标，不同人却做出了截然不同的解读。
甚至，很多网友都吵翻了！
官方公布的氟化氩光刻机，文件标明其套刻精度≤8nm。
小于等于8纳米？
中国官宣的光刻机，可以制作小于8纳米的芯片了？
那距离高端芯片需要的7纳米，那不几乎已经达到了？
中国光刻机这么快就一步到位了？
一些自媒体制作的短视频，就是这样解读的。
很多网友看了解读后，都感觉特别解气、特别过瘾！
但是，后来更专业的人士出面，对这种理解作了纠正。
原来，套刻精度，不是可以制作的纳米数，而是每一层光刻层之间的对准精度。
中国这次官宣的，属于DUV光刻机。
≤8nm的套刻精度，并不意味着能直接制造8nm工艺的芯片。
但它却为国产光刻机向更高制程迈进，奠定了坚实的基础！
正如半导体行业人士评价的那样，这一精度的提升，使得国产光刻机在成熟区间，甚至更高一些区间内都有了更大的应用空间。
分辨率≤65nm，这个数据，才与制作多少纳米芯片关系密切。
据分析，这种套刻精度的光刻机，制作7纳米芯片难度较大，制作28纳米芯片技术上比较成熟。
氟化氩光刻机的问世，虽然其技术参数尚未达到全球最顶尖水平，但这一“小步”却代表着中国从0到1的重要跨越！
这一跨越，是中国“芯”技术实现并跑，乃至未来领跑的重要阶段。
它不仅是对西方技术封锁的一次有力反击，更是中国科技自立自强、创新驱动发展战略的生动体现。
这一成就，不仅让国内网友欢呼雀跃，更让世界看到了中国科技的无限潜力和广阔前景！
熟悉中国科研模式，尤其是中国突破西方封锁的科研模式的朋友，可能了解：
当中国公布这一比较成熟的重大成果的时候，另外更先进的研究，可能已经取得一定成果了！
中国现在公布的光刻机，可以轻松达到28纳米，那能够达到7纳米的光刻机，早就已经在研制中了！
甚至已经取得较大成果了！
只有这样解读，我们才能弄明白：
华为公司为什么能够突破西方封锁，研制出华为新一代“争气机”！
因为，中国靠自己的力量，就能够制作出先进的手机芯片了！
面对中国光刻机的巨大进步，美国和荷兰选择了沉默。
他们或许已经意识到：
中国在芯片领域的崛起，已是不可逆转的潮流！
任何封锁和打压，都无法阻挡这一历史进程！
对于世界光刻机巨头ASML而言，中国此次在DUV光刻机上的突破，无疑给他们敲响了警钟！
中国早晚有一天，能够赶上，甚至赶超！
而对于美国来说，中国在“芯”技术上的突破更是对他们辛苦构建的科技霸权的重创。
他们试图通过技术封锁，永远将中国困于价值链的底端。
未曾料到，这一举动，反而加速了中国“芯”的蜕变和飞翔！
事实已经表明：
中国的“芯”崛起，已经成为不可逆转的发展趋势！
本文仅为个人观点，不代表冯站长之家
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发表于 2024-9-23 10:19
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